高校化学工程学报

2020, (03) 710-717

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Past Issue) | 高级检索(Advanced Search)

电化学氟化提高TiO2薄膜光电催化性能
Enhancement of photoelectrocatalytic performance of TiO2 thin films by electrochemical fluorination

李想1;2;张林1;杨波2;吴雅琴2

摘要(Abstract):

为了提高二氧化钛(TiO2)薄膜光电性能,采用电化学氟化制备氟化二氧化钛薄膜(F-TiO2),优化电压、时间、氟离子浓度对F-TiO2光电性能的影响,考察F-TiO2薄膜光电催化As(III)和苯酚的性能,并测试F-TiO2薄膜光吸收性质,F-TiO2在400℃焙烧后光电流以及TiO2薄膜电极在含氟水溶液中光电流,分析F-TiO2光电催化性能提高的原因。结果表明:最佳氟化条件为10 V、5 min、0.5% NaF;在0.8 V,N2条件下,F-TiO2稳态光电流提高约2.6倍;在0.8 V,空气条件下,光电催化As(III)和苯酚速率提高2.0倍左右。电化学表面氟化形成化学键氟可能是提高TiO2光电催化性能的主要因素。

关键词(KeyWords): 氟化TiO2;薄膜电极;光电催化性能;As(III)氧化;苯酚降解

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家重点研发计划(2017YFC0403701);浙江省海水淡化技术研究重点实验室(2012E10001);杭州市重大科技创新(20182013A02)。

作者(Author): 李想1;2;张林1;杨波2;吴雅琴2

Email:

DOI: 10.3969/j.issn.1003-9015.2020.03.020

参考文献(References):

扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享